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脈沖激光沉積鍍膜機PLD系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam 概述:系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。
熱蒸發(fā)鍍膜機Thermal Evaporation 設(shè)備用途:熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程??稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡介: 1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求 2. 直徑200毫米的石英室 3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計便于拆卸和清洗 4. 基片尺寸可達直徑150毫米 5. 三區(qū)電阻爐,150毫米的均勻溫度區(qū)
1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。 2.產(chǎn)品類型:有立式單腔,雙腔晶圓甩干機(2-12寸),水平多工位甩干機(2-12寸) 3.單次甩干數(shù)量1-25塊 4.作業(yè)程序:沖洗、烘干的步驟順序、時間、 轉(zhuǎn)速等可分段編輯,(可設(shè) recipe 為 10 個)