當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 3 CVD > Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
簡要描述:Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 (PEALD) 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝,Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇,甚至可達幾微米。
產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles詳細(xì)介紹
1.產(chǎn)品概述:
Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 (PEALD) 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝,Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇,甚至可達幾微米。
2.產(chǎn)品配置:
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。
自動化服務(wù)包括:
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機器人
樣品對準(zhǔn)器
可選預(yù)熱和冷卻
3.產(chǎn)品優(yōu)勢:
超高沉積速率,高達每小時幾微米
批量 PEALD 工藝,適用于多達 7 個 200 mm 晶圓
適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高,適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用
可配備負(fù)載鎖或晶圓自動化
產(chǎn)品咨詢