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WLCSP晶圓級(jí)芯片封裝技術(shù)-矢量科學(xué)
2023-09-08

WLCSP(WaferLevelChipScalePackaging)即晶圓級(jí)芯片封裝方式,不同于傳統(tǒng)的芯片封裝方式(先切割再封測(cè),而封裝后至少增加原芯片20%的體積),此種技術(shù)是先在整片晶圓上進(jìn)行封裝和測(cè)試,然后才切割成一個(gè)個(gè)的IC顆粒,...

  • 2023-11-03

    半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一種用于半導(dǎo)體材料表面處理的設(shè)備,主要用于去除雜質(zhì)、平整表面和提高光潔度。它在半導(dǎo)體制造過(guò)程中起到關(guān)鍵作用,對(duì)芯片的質(zhì)量和性能具有重要影響。工作原理基于磨粒和拋光液的作用。該機(jī)器通常由研磨盤(pán)、拋光盤(pán)、液壓系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。在工作時(shí),半導(dǎo)體晶圓(wafer)被放置在研磨盤(pán)上,并通過(guò)液壓系統(tǒng)施加壓力。同時(shí),研磨盤(pán)和拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng),將磨粒和拋光液帶到晶圓表面,實(shí)現(xiàn)研磨和拋光的目的。具體而言,研磨盤(pán)上鋪有磨粒,如氧化鋁或金剛砂,用于去除晶圓表面的雜質(zhì)、缺陷和不平整部...

  • 2023-10-08

    半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一種用于處理半導(dǎo)體材料表面的專(zhuān)業(yè)設(shè)備,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體芯片、晶圓和襯底等材料進(jìn)行研磨和拋光處理。主要依靠研磨液和磨料的作用,通過(guò)機(jī)械摩擦的方式去除半導(dǎo)體材料表面的不均勻?qū)雍痛植诙龋蛊溥_(dá)到預(yù)定的平整度和光潔度。在研磨過(guò)程中,研磨液提供有效的冷卻和潤(rùn)滑作用,而磨料則起到磨削和拋光的作用,共同實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體材料的加工。半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)的結(jié)構(gòu):1.主控系統(tǒng):負(fù)責(zé)控制整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行和監(jiān)測(cè),包括控制面板、運(yùn)動(dòng)控制器等。2.支撐架和夾具:用于固定和支撐待處理的半導(dǎo)體材料,...

  • 2023-09-05

    半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀是一種用于對(duì)半導(dǎo)體器件進(jìn)行測(cè)試和分析的設(shè)備。它可以測(cè)量和評(píng)估半導(dǎo)體器件的電氣性能,并提供準(zhǔn)確的參數(shù)數(shù)據(jù),幫助工程師了解和改進(jìn)器件的性能。在半導(dǎo)體制造、研發(fā)以及質(zhì)量控制等領(lǐng)域都具有重要的應(yīng)用價(jià)值。半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀的主要功能包括以下幾個(gè)方面:1.電流-電壓特性測(cè)試:半導(dǎo)體器件的電流-電壓特性是評(píng)估其性能的關(guān)鍵指標(biāo)之一。測(cè)試儀可以通過(guò)施加不同的電壓和測(cè)量相應(yīng)的電流來(lái)繪制電流-電壓曲線,從而了解器件的導(dǎo)通特性、擊穿電壓等信息。2.頻率響應(yīng)測(cè)試:半導(dǎo)體器件在不同頻率下的...

  • 2023-08-04

    脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種高精度、高效率的三維打印技術(shù),利用脈沖激光對(duì)材料進(jìn)行快速熔化和凝固,實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的部件制造。脈沖激光沉積系統(tǒng)包括激光發(fā)生器、光束傳輸系統(tǒng)、沉積平臺(tái)和控制系統(tǒng)等關(guān)鍵組成部分:1.脈沖激光發(fā)生器是系統(tǒng)的核心部件,負(fù)責(zé)產(chǎn)生高能量、高頻率的激光脈沖。通過(guò)電子激發(fā)、光放大和脈沖調(diào)制等過(guò)程,激光發(fā)生器可以產(chǎn)生穩(wěn)定而高質(zhì)量的激光束。常見(jiàn)的激光源包括二極管激光器、固體激光器和光纖激光器等。2.光束傳輸系統(tǒng)將激光束從激光源傳輸?shù)匠练e區(qū)域。這個(gè)系統(tǒng)通常包括透鏡、反射鏡、光纖...

  • 2023-07-06

    激光直寫(xiě)光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù),用于微電子制造和納米加工領(lǐng)域。它利用高能激光束直接將圖案投射到光敏材料上,實(shí)現(xiàn)高精度、高分辨率的圖案轉(zhuǎn)移。原理基于激光器發(fā)射出的高能激光束。激光束經(jīng)過(guò)光學(xué)系統(tǒng)聚焦后,通過(guò)光掩膜或計(jì)算機(jī)控制的光束形狀器件進(jìn)行調(diào)節(jié),然后準(zhǔn)確地照射到待加工的光敏材料上。激光束的高能量密度使得光敏材料在受光區(qū)域發(fā)生化學(xué)或物理變化,形成所需的圖案。這個(gè)過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)非常細(xì)致的圖案結(jié)構(gòu),具有高分辨率和高加工精度。激光直寫(xiě)光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于微電子制造和納米加工領(lǐng)域。在集成電...

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